簡易檢索 / 檢索結果

  • 檢索結果:共1筆資料 檢索策略: "化學工程系".dept (精準) and ckeyword.raw="碳化矽緩衝層"


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    以三氯甲基矽烷為前驅物在Si(111)碳化晶片上製備碳化矽緩衝層之研究
    • /111/ 碩士
    • 研究生: 蔡佩君 指導教授: 洪儒生
    • 本論文使用兩個連續程序,在配備即場式X射線光電子能譜儀(XPS)和反射式高能電子衍射儀(RHEED)的超高真空化學氣相沉積(UHV-CVD)系統中,進行矽晶片(Si(111))的表面碳化和 SiC …
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